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微流控芯片制作與加工

微流控的研究始于80年代初并用于噴墨打印機噴頭,DNA芯片,實驗室芯片技術,微推動及溫度脈沖技術。微流控芯片,又稱其為微流控芯片實驗室或芯片實驗室,它是微流控技術實現的主要平臺,可在類似一枚郵票或一張信用卡大小的芯片上完成生物或化學實驗室各種功能的技術。

微流控芯片的制作

1、加工技術起源于微電子工業微機電加工技術,即集成電路芯片制作的光刻和蝕刻技術,微管道寬度和深度為微米級,比集成電路芯片的大,但加工精度要求則相對較低。

2、基片材料應具有良好的電絕緣性、散熱性、光學性能可以修飾性,可產生電滲流,能固載生物大分子,對檢測信號干擾小或無干擾;與芯片實驗室的工作介質之間要有良好的化學和生物相容性,不發生反應。基片材料從硅片發展到玻璃,石英,有機聚合物等。

3、微米尺寸結構,要求在制備過程中必須對環境進行嚴格認真的控制,包括空氣濕度,空氣溫度,空氣及制備過程中所使用的各種介質中的顆粒密度,要求在潔凈室內完成。

微流控芯片的基本加工

1、光刻和蝕刻技術,用光膠。掩膜、和紫外光進行微制造,由薄膜沉積,光刻和蝕刻三個工序組成。

2、光刻前首先要在基片表面覆蓋一層薄膜。然后在薄膜表面用甩膠機均勻地覆蓋上一沉光膠,將掩膜上微流控芯片設計圖案通過曝光成像的原理轉移到光膠層的工藝過程稱為光刻。

      3、光刻的質量則取決于光抗蝕劑(有正負之分)和光刻掩膜版的質量。掩膜的基本功能是基片受到光束照射(如紫外線)時,在圖形區和非圖形區產生不同的光吸收和透過能力。

    微流控芯片是當前微全分析系統發展的熱點領域。其產生的應用目的是實現微全分析系統的終極目標——芯片實驗室,目前重點應用領域是生命科學領域。

微流控芯片加工


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