• 微流控中的電極掩膜版的制備工藝測量：測量掩膜版的關(guān)鍵尺寸（CD，Crital Dimension）和套刻精度（Overlay）等關(guān)鍵參數(shù)。缺陷處理：對檢測到的缺陷進(jìn)行修復(fù)。貼光學(xué)...2025-05-06 10:10:10
• 正性光刻對掩膜版有哪些要求案到光刻膠上。分辨率受到光刻膠、曝光光源和掩膜版本身等多種因素的影響。套刻精度：套刻精度是指不同層圖案之間的對準(zhǔn)精度。對于正性光刻而言，掩膜版上的圖...2025-02-17 09:46:14
• 微流控光刻掩膜版的介紹及作用，其中需對掩膜版關(guān)鍵尺寸（CD，CriticalDimension）、套刻精度（Overlay）等關(guān)鍵參數(shù)進(jìn)行測量，同時需使用自動光學(xué)檢測設(shè)備（AO...2024-08-15 10:13:13
• 光刻工藝介紹裝備，評價光刻機(jī)性能主要有三個指標(biāo)。即分辨率（resolution）、套刻精度(overlay)和產(chǎn)率（throughput）。分辨率一般有兩種表示...2023-12-21 10:56:32
• 對準(zhǔn)工作原理，這樣才能保證每一層圖形有正確的相對位置，這稱為套刻曝光（簡稱套刻）。套刻精度是投影光刻機(jī)的關(guān)鍵技術(shù)指標(biāo)，而對準(zhǔn)精度是影響套刻精度的關(guān)鍵因素。掩模硅...2018-07-27 09:05:43
• 芯片光刻的流程詳解（上）lat進(jìn)行激光自動對準(zhǔn)b、通過對準(zhǔn)標(biāo)志，位于切割槽上。另外層間對準(zhǔn)，即套刻精度,保證圖形與硅片上已經(jīng)存在的圖形之間的對準(zhǔn)。（文章來源:半導(dǎo)體行業(yè)觀察...2018-07-12 08:36:24
• Nikon光刻機(jī)對準(zhǔn)機(jī)制和標(biāo)記系統(tǒng)研究心坐標(biāo)，最終完成所有曝光前的對準(zhǔn)工作。經(jīng)過以上各步的對準(zhǔn)操作，可得到的套刻精度是(某次實(shí)測值),X方向3a值為0.078Km,Y方向0.082um,...2018-01-31 09:33:17