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• SU8 光刻膠使用方法及注意事項使用方法基底準(zhǔn)備在使用SU-8光刻膠之前，基板應(yīng)保持清潔和干燥.清潔基板的方法包括使用硫酸和過氧化氫的混合液（piranha etch）進(jìn)行濕法清洗，...2024-09-27 09:37:13
• 硅片模具???? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? 硅片注塑模具? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ...2026-06-01 20:57:35
• 光刻加工寬5μm，高度5μm到400μm可控，誤差在5-10%；光刻膠種類：進(jìn)口SU8系列，國產(chǎn)SU8系列，進(jìn)口AZ50XT，AZ9260；光刻膠模具優(yōu)點：圖...2026-06-01 20:57:35
• 純硅模具純硅模具介紹在微流控芯片的加工過程中，除了使用SU8實惠的模具，還需要高精度的純硅模具。一般在以下情況我們會選擇加工純硅模具：1、需要比SU-8模具更高的深寬比；2、模具的加工精度誤差在1μm以內(nèi)...2026-06-01 20:57:35
• Microchem SU-8光刻膠 2000系列8 膠正被逐漸應(yīng)用于 MEMS、芯片封裝和微加工等領(lǐng)域。目前，直接采用 SU8光刻膠來制備深寬比高的微結(jié)構(gòu)與微零件已經(jīng)成為微加工領(lǐng)域的一項新技術(shù)。在微...2024-03-28 10:07:48
• 用于絲狀真菌抗真菌分析的液滴微流控平臺（下）8軟件下設(shè)計（圖5a），并由CAD/Art打印在光掩模上。在硅晶圓上制備SU8-2050負(fù)性光刻膠模具，通過紫外線照射和隨后的顯影（SU-8顯影液）。...2024-05-16 11:26:02
• AZ 5214E 光刻膠AZ光刻膠刻蝕厚度從1μm到150μm以及更厚。AZ光刻膠特點：適用于高分辨率工藝（lift-off工藝）適用于正/負(fù)圖形很寬的膜厚范圍AZ光刻膠工藝...2024-03-28 10:29:49
• 光刻膠8?膠正被逐漸應(yīng)用于 MEMS、芯片封裝和微加工等領(lǐng)域。目前，直接采用 SU8光刻膠來制備深寬比高的微結(jié)構(gòu)與微零件已經(jīng)成為微加工領(lǐng)域的一項新技術(shù)。在微...2024-03-28 10:18:53
• 進(jìn)口 Microchem SU-8 光刻膠 2000系列 100-1508 膠正被逐漸應(yīng)用于 MEMS、芯片封裝和微加工等領(lǐng)域。目前，直接采用 SU8光刻膠來制備深寬比高的微結(jié)構(gòu)與微零件已經(jīng)成為微加工領(lǐng)域的一項新技術(shù)。在微...2024-03-28 10:12:32