• 微流控芯片基片與蓋片一體化注塑成型研究1基片與蓋片一體化注塑成型模具設計1.?1產品簡介圖1所示是本文成型的一種典型的基片與蓋片一體化微流控芯片塑件排布圖,中間為流道和澆口部分,左側為附有...2018-07-27 08:55:14
• 委托開發 Chip的文獻，以文獻為參考基準。微流控芯片由兩部分組成：鍍有金電級的基片和設計有特征微流道的PDMS蓋片。2、基片：基片材質為玻璃或者硅片，上面...2026-06-01 18:09:33
• 光刻加工膠），使掩膜版上的圖形被復制到光刻膠薄膜上，最后利用刻蝕技術將圖形轉移到基片上或利用套刻技術形成PDMS芯片。? ? ? ?光刻掩膜版? ? ? ?...2026-06-01 18:09:33
• WH-SC-01 勻膠機能打開?？梢云鸬奖Ｗo作用。汶顥股份勻膠機適應于半導體硅片，載玻片，晶片，基片，ITO導電玻璃等工藝，制版的表面涂覆。該產品具有轉速穩定和啟動迅速等優...2022-10-10 11:25:17
• 生物芯片概述及概念物芯片和被動式生物芯片兩類。? ? ?被動式生物芯片的實質是在面積不大的基片上有序地點陣排列了一系列固定于一定位置的可尋址的敏感物質，結合或反應在相...2016-02-23 13:48:09
• 多溫區烘膠臺產品介紹避免“表皮效應”，烘烤時間縮短數倍，膜層更致密均勻。技術規格速覽型號適用基片控溫范圍功率外形尺寸重量WH-HP-02Φ210 mm室溫～300℃2....2026-05-07 14:35:58
• 多溫區烘膠臺選型報告：＜±5%3. 技術參數對比表參數項WH-HP-02WH-HP-03適用基片尺寸Φ210 mm (7寸)Φ130 mm (5寸)烘膠溫度范圍室溫～3...2026-05-07 14:13:40
• 蘇州汶顥 WH-SC-01 臺式勻膠機：參數解析與應用場景全介紹現膠液均勻涂覆，支持多階段轉速控制與實時狀態監測，可保證半導體材料、光學基片等表面涂膠厚度的一致性與均勻性，是薄膜材料制備工藝的核心設備之一。二、核...2026-04-27 14:49:42
• 實驗室 / 半導體工藝勻膠機選型指南：從需求匹配到參數避坑（又稱旋涂儀、Spin Coater）的核心價值，是利用離心力實現膠液在基片表面的均勻涂覆，其性能直接決定薄膜厚度的均一性與實驗重復性。選型前，必須...2026-04-27 14:25:21
• 顯影機選型推薦：如何為光刻工藝找到合適的自動化顯影設備？點：為什么需要自動化？在實驗室環境中，手動顯影最常見的操作是：將曝光后的基片置于培養皿中，倒入顯影液并手動晃動，達到目測效果后取出沖洗。這種方式的局...2026-04-15 15:21:49